#USTechFundFlows
Februar 2026 zeigt eine klare gespaltene Persönlichkeit im U.S. Tech-Investieren.
An der Oberfläche bleiben die wichtigsten Indizes nahe Rekordhöhen. Darunter? Eine scharfe Rotation entfaltet sich. Der „AI-zu-jedem-Preis“-Handel steht vor seinem ersten echten Stresstest des Jahres — und die Kapitalflüsse erzählen die Geschichte.
Während die in den USA gelisteten ETFs in den letzten Wochen massive 37,2 Milliarden Dollar an Zuflüssen angezogen haben, sind technologie-spezifische Fonds nicht mehr die automatischen Gewinner. Softwarelastige ETFs wie IGV erfuhren spürbaren Druck, wobei der Sektor in einer Woche um etwa 7,5 % nachgab. Investoren beginnen, überdehnte Bewertungen und die Nachhaltigkeit der Hyperwachstumserwartungen in Frage zu stellen.
Anstatt sich vollständig aus Aktien zurückzuziehen, wird Kapital neu positioniert.
Wir sehen einen klaren Flug zur Qualität. Breite Marktvehikel wie VOO zogen in einer einzigen Woche Milliarden an, was signalisiert, dass Investoren immer noch Tech-Exposure wollen — nur verpackt in diversifizierte, große Stabilität. Es ist keine Angst. Es ist eine Neukalibrierung.
Noch interessanter ist die globale Rotation. Emerging-Market-ETFs haben Rekordzuflüsse im Januar absorbiert, was eine abkühlende Konzentration auf teure US-Mega-Cap-Tech hervorhebt. Wenn die Positionierung überfüllt wird, sucht das Kapital nach relativen Werten anderswo.
Aber das ist keine Erzählung über den Zusammenbruch der Technologie.
Geld fließt weiterhin aggressiv in AI-Infrastruktur und Halbleiterkapazitäten, gespeist von hyperscaler CAPEX, das voraussichtlich in diesem Jahr atemberaubende Höhen erreichen wird. Der Unterschied? Investoren trennen langlebige Infrastrukturspiele von spekulativen Software-Momentum-Handelsstrategien.
Kurz gesagt:
2025 drehte sich alles darum, AI-Schlagzeilen zu verfolgen.
2026 dreht sich alles um Preisd disziplin.
Die Frage ist jetzt nicht, ob AI wichtig ist — sondern wie viel Sie bereit sind zu zahlen, um Exposure zu erhalten.
Die Rotationssaison ist offiziell da.
