China ha alcanzado, según informan, un hito importante en su búsqueda de independencia en semiconductores. Según Reuters, ingenieros chinos en Shenzhen han desarrollado un prototipo de máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), la herramienta altamente compleja necesaria para fabricar los microchips más avanzados del mundo.
Actualmente, la empresa holandesa ASML tiene un monopolio global sobre la tecnología EUV. Estas máquinas, que cuestan aproximadamente $250 millones cada una, son esenciales para producir los chips de vanguardia diseñados por Nvidia y AMD y fabricados por gigantes de la industria como TSMC, Intel y Samsung.
Aspectos Clave del Avance
Independencia Estratégica: Este desarrollo es el resultado de un esfuerzo de seis años, financiado por el estado, al estilo del "Proyecto Manhattan" destinado a eliminar la tecnología estadounidense de la cadena de suministro de China.
El Prototipo: Mientras que la máquina ahora puede generar luz EUV, todavía está en la fase de pruebas. Aún no ha producido chips funcionales, con objetivos de producción completa estimados para 2028 a 2030.
Esfuerzo Colaborativo: Se informa que el proyecto está liderado por Huawei, utilizando una red de proveedores nacionales y antiguos ingenieros de ASML para realizar ingeniería inversa de componentes críticos.
El Objetivo: China aspira a crear una línea de producción completamente nacional, protegida de sanciones occidentales y controles de exportación.