🇯🇵 JAPON WYZWANIE HEGEMONII EUV 🇯🇵
Japonia właśnie zanotowała ważny postęp w wyścigu o zaawansowane półprzewodniki: Dai Nippon Printing (DNP) opracowała szablon do litografii nanoimprint (NIL) z liniami o szerokości 10 nm, przeznaczony do logiki klasy 1,4 nm. Zamiast używać światła EUV, technologia fizycznie wypisuje wzór na płytkach, redukując zużycie energii nawet do jednej dziesiątej w porównaniu z EUV i ArF immersion.
Ten podejście może zastąpić część etapów EUV, zmniejszając koszty, złożoność instalacji i zależność od monopoli ASML w zakresie skanerów EUV.
Cel jest jasny: umożliwienie foundry bez EUV wejścia do elity zaawansowanych węzłów dla smartfonów, centrów danych i pamięci NAND.
DNP już rozpoczęło ocenę z klientami i ma na celu produkcję masową szablonów NIL w 2027 roku, równolegle do węzłów 1,4 nm zapowiedzianych przez TSMC i Samsung.
Jeśli wydajność, dokładność nakładania i przepustowość wytrzymają próbę produkcji w dużych ilościach, NIL może stać się „drugą torą”, która zmniejszy zatory i koszty kapitałowe związane z EUV, przyspieszając globalną skalowalność zaawansowanych układów.